哈工大在光刻机领域突破的是什么技术？

引言：芯片作为现在科技发展的重要产业，芯片的制造需要的就是光刻机，我国目前还没有研制出自己的光刻机，一直以来都是从国外进口。现在最顶尖的EUV光刻机只有一家荷兰公司可以生产，美国为了制裁我国，甚至联合这家公司限制对我国光刻机的出口，我国芯片研究和制作举步维艰。



这对我国的科技发展非常不利，我国也在加紧自主研发光刻机，哈工大近日传出消息，已经取得了EUV光刻机核心技术的突破，难道我国已经破解了欧美垄断了许久的光刻机技术？这是怎么回事？让我们一起来看看。

一、 什么是光刻机

光刻机的复杂程度难以想象，光刻机的组装需要10万个零部件，而这些零部件并不是一个国家的某一家公司生产的，而是来自于全球各国的5000家供应商一同生产的。荷兰公司ASML虽然是光刻机的制造商，但是自主生产的零部件占比只有百分之十。



这意味着光刻机的生产需要几千家企业通力合作才能够生产出来，仅凭一个企业的高端技术是不可能独立制造出来的。

想要生产光刻机，门槛非常的高，首先就是技术，需要长时间研究和积累才能拥有先进的技术，其次就是人类，组装10万个零件，可不是一两个人就能完成的。

目前全球只有四家公司能够生产光刻机，虽说制造是都能够制造出来，但是制程技术却有高下之分，这四家荷日中公司对比起来只有荷兰的ASML能够生产出最【禁用词】的EUV光刻机，且能够实现量产。



所以世界各国都想要从ASML这里购买光刻机，但是ASML并不是哪个国家的单都接。这是因为近年来美国频繁修改半导体行业的规则，ASML也只能依照规则进行贸易，不在供货名单内的企业就不对其供货。美国去年再次修改，限制了ASML对ZG光刻机的出口，我国半导体行业发展受到了阻碍。

二、 哈工大技术突破

想要拥有光刻机，我们必须要自主研发，拥有自己的核心技术，实现生产自己的光刻机，不再依靠国外供货。

工程院院士倪光南曾经在采访时候说到，核心技术不能靠买过来，也不能靠换过来，只能靠我们自己研发。所以国内最近有什么研发新进展呢？



哈工大近日公布了一项新的研究成果，名字叫作“高速超精密激光干涉仪”。这项技术对于我国的芯片研究和生产来说是一种意义非凡的突破，打破了我国芯片7nm研究生产的瓶颈，加快了赶上国际顶尖技术的脚步。

这项技术在说的简单一些，是我国光刻机从低端走向高端的重大突破，解决的是高端装备领域的测量问题，提高了测量精度。

如果这项技术能够进行转化落地到生产领域，或许将成为我国EUV光刻机的核心技术应用。虽然哈工大刚研制出来，但是未来的发展前景还是非常可观的。



令人欣喜的是，这项技术还获得国际大奖，一举拿下了世界光子大会“金燧奖”的金奖，让这项技术在各项技术成果荟萃的大会中脱颖而出，可见这项成果的可贵。

这已经不是哈工大第一次实现技术突破了，22年3月，哈工大发布的最新核心研究成果，这项成果非常关键，是基于新型深紫外激光器件领域的重大突破。对于解决小型化短波激光器的制作拓展了新的研究路径，也为DUV深紫外光刻机的研究带来了新成果、新方案。



任何一项科技成果的落地都离不开千万个科研人员在背后夜以继日的研究和实验所做的努力，尤其是EUV光刻机，上面的十万个零件但凡有一个零件出了问题，光刻机的精准度就会受到影响，难以想象这五千个供应商是如何将控制自己的产品质量的，背后的工程师所做的努力不容忽视。

所以不要觉得ASML能够生产EUV光刻机就非常的强，强的是光刻机后面的所有供应商，凝聚了所有的汗水和智慧才制造出了光刻机。光刻机身上体现了全球产业链的交融和合作，整合了全球产业资源才能够实现EUV光刻机的量产。



哈工大这次的技术突破是具有历史意义的，对于今后我国的EUV、DUV光刻机的技术研究和量产具有巨大的推动作用。

总结：科技也是国家整体实力的一部分，未来的国际竞争很可能会从科技领域展开，美国的种种行为已经有了这样的趋势。我们不知道未来如何，我们只能做好当下，国内的高校、研究所、研究员都不会停下研究的步伐，我们会研究出自己的光刻机核心技术，让我国的芯片行业不再受制于人！